ガスホルダー用の薄膜加熱システムは、ガスセル内の試料を1000°C以上に加熱します。低ドリフト、高い画像安定性、160時間以上の長寿命により、この加熱システムは堅牢であるだけでなく、高倍率でのイメージング中に、関心領域の追跡を可能にします。加熱は、独自設計のコントロールボックスとソフトウェアによって制御され、クローズドループ温度制御と、オンチップセンサーによる4点プローブの温度センシング機能を備えています。このセンサーは、試料の温度を測定するだけではなく、ナノカロリメトリを実行できるほどの小さなパワー変化をも検出できる精度を備えています。